2017年，他和Ashish Vaswan。
六氟化钨是目前唯一可用于化学气相沉📱积制程、在硅片上🦟😃均匀沉积钨金🌷属薄膜🇨🇼。
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2017年，他和Ashish Vaswan。
发表 : AdminKXMCJ
六氟化钨是目前唯一可用于化学气相沉📱积制程、在硅片上🦟😃均匀沉积钨金🌷属薄膜🇨🇼。
发表 : AdminHKCZ
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发表 : Admin